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电沉积坡莫合金薄膜的结构和纵向磁阻抗效应(英)

宫峰飞 凯木尔 沈国土 袁望治 阮建中 杨燮龙

宫峰飞, 凯木尔, 沈国土, 袁望治, 阮建中, 杨燮龙. 电沉积坡莫合金薄膜的结构和纵向磁阻抗效应(英)[J]. 华东师范大学学报(自然科学版), 2005, (1): 63-67.
引用本文: 宫峰飞, 凯木尔, 沈国土, 袁望治, 阮建中, 杨燮龙. 电沉积坡莫合金薄膜的结构和纵向磁阻抗效应(英)[J]. 华东师范大学学报(自然科学版), 2005, (1): 63-67.
GONG Feng-fei, Kamel A, SHEN Guo-tu, YUAN Wang-zhi, YANG Xie-long, . Structure and Longitudinal Magnetoimpedance Effect of Permalloy Films by Electrodeposition(English)[J]. Journal of East China Normal University (Natural Sciences), 2005, (1): 63-67.
Citation: GONG Feng-fei, Kamel A, SHEN Guo-tu, YUAN Wang-zhi, YANG Xie-long, . Structure and Longitudinal Magnetoimpedance Effect of Permalloy Films by Electrodeposition(English)[J]. Journal of East China Normal University (Natural Sciences), 2005, (1): 63-67.

电沉积坡莫合金薄膜的结构和纵向磁阻抗效应(英)

详细信息
    通讯作者:

    宫峰飞

  • 中图分类号: TM271.2

Structure and Longitudinal Magnetoimpedance Effect of Permalloy Films by Electrodeposition(English)

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    Corresponding author: GONG Feng-fei
  • 摘要: 采用电沉积法制备了厚度为1.1μm到6.9μm的坡莫合金薄膜.经X-射线衍射分析,其结构为fcc 结构,其中NiFe(111)衍射峰的强度明显增强.该薄膜的磁滞回线测量结果表明:其矫顽力随着薄膜厚度的增加而减小.在交流Irms=6mA,频率范围在0.05kHz 到 600kHz 的条件下,纵向磁阻抗比随着薄膜厚度的增加而增加,其最小值可达-52%.
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出版历程
  • 收稿日期:  2003-04-28
  • 修回日期:  2003-07-02
  • 刊出日期:  2005-03-25

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