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pH和取代基团对席夫碱电化学氧化还原的影响

朱延松 田晓华 辛广

朱延松, 田晓华, 辛广. pH和取代基团对席夫碱电化学氧化还原的影响[J]. 华东师范大学学报(自然科学版), 2011, (2): 70-76.
引用本文: 朱延松, 田晓华, 辛广. pH和取代基团对席夫碱电化学氧化还原的影响[J]. 华东师范大学学报(自然科学版), 2011, (2): 70-76.
ZHU Yan-song, TIAN Xiao-hua, XIN Guang. Effects of pH and substituent group on electrochemical redox of Schiff bases[J]. Journal of East China Normal University (Natural Sciences), 2011, (2): 70-76.
Citation: ZHU Yan-song, TIAN Xiao-hua, XIN Guang. Effects of pH and substituent group on electrochemical redox of Schiff bases[J]. Journal of East China Normal University (Natural Sciences), 2011, (2): 70-76.

pH和取代基团对席夫碱电化学氧化还原的影响

详细信息
    通讯作者:

    朱延松

  • 中图分类号: O646.54

Effects of pH and substituent group on electrochemical redox of Schiff bases

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    Corresponding author: ZHU Yan-song
  • 摘要: 合成了5种不同结构的席夫碱(N-苯基苯甲亚胺、具有—OH基团的N-苯基-2-羟基苯甲亚胺和N-(2-羟基)苯基苯甲亚胺、具有—NO2基团的N-苯基-4-硝基苯甲亚胺和N-(4-硝基)苯基苯甲亚胺).利用循环伏安法对5种席夫碱水溶液在玻碳电极上的电化学氧化还原行为进行了研究.同时考察了pH对席夫碱—CH==N—基团的电化学氧化还原反应的影响.结果表明:这5种席夫碱的—CH==N基团都可以在玻碳电极上被还原,且是一个电化学上不可逆的过程;席夫碱结构上具有不同的取代基团(—OH和—NO2)和同一取代基团在席夫碱不同的位置上(与碳端相连苯环、与氮端相连苯环)对—CH==N—基团的电化学还原都有较大的影响;而在不同pH缓冲溶液中,H+浓度对5种席夫碱的—CH==N—基团还原也有一定的影响;进而推断出席夫碱在玻碳电极上的电化学还原机理是—CH==N—基团上先在N原子上先得到一个电子,后在C原子上得到一个电子,再得到两个H+的过程.
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出版历程
  • 收稿日期:  2010-03-01
  • 修回日期:  2010-06-01
  • 刊出日期:  2011-03-25

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